精密电子净化车间多重优惠

如何清洁精密电子净化车间，需要注意什么

{精}空间清洁要求 （1）、清洁洁净室内的墙时应使用洁净室 无尘布 ； （2）、用90%去离子水和10%的专用药配置清洁剂； （3）、使用已获批准的洁净室专用去污剂； （4）、每天都要检查车间和整备间的垃圾箱，并及时清走。 （5）、每块地板都要吸尘。每次交接班时，都应在地图上标明工作完成情况，例如在哪结束从哪开始。 （6）、清洁洁净室的地面应使用专用拖把。 （7）、在精密电子净化车间里吸尘应使用带有过滤器的专用真空吸尘器。 （8）、所有的门都需要检查并擦干 （9）、吸完地以后再擦地。一周擦一次墙面。 （10）、架空地板下也要吸尘及擦拭。 (11)、三个月擦一次架空地板底下的柱子和支撑柱。 （12）、工作时一定要记住，永远是由上往下擦，从离门远的地方向门的方向擦。

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怎么控制精密电子净化车间的污染？

洁净室的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。精密电子净化车间净化工程具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。想了解更多相关信息，可以咨询昭明净化机电工程有限公司，谢谢！

电子行业精密电子净化车间要注意什么

1.对电子行业的精密电子净化车间来说，看你使用的设备是否有高辐射，比如射线探伤设备，必须有相应的防护措施，避免人员在精密电子净化车间工作中受伤;

2、精密电子净化车间空间相对封闭，必须按照要求配置灭火系统，例如足够的排风排烟设施，灭火器和消火栓 ，以及保证疏散通道的通畅，否则在发生紧急情况时，人员无法及时疏散，相对普通车间会造成比较大的***。

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